光刻机是干什么用的？

光刻机是一种用于半导体制造的关键设备。它主要用于在半导体材料表面上形成微小图案和结构。通过光刻技术，可以将电路图案显影到光阻涂层上，然后通过刻蚀和腐蚀等工艺将电路图案转移到半导体材料上。

光刻机的工作原理是利用光资源进行投影照射，通过光刻版或掩膜上的图形模式产生相应的图案。光源经过准直系统和分束系统进行整形和分束，然后通过透镜系统将图案投影到光刻胶涂覆的半导体芯片或晶圆上。